Micro-OLED顯示斜紋Mura的研究及改善
摘 要:硅基微顯示(Micro-OLED)工藝中,在進行驅(qū)動線路制備時,需進行化學機械研磨(CMP)處理,保證金屬互聯(lián)層的穩(wěn)定性及均一性。不同材料對CMP工藝的耐受性存在差別,切割道或凈空區(qū)通常為介電材料層(SiO、SiNx等絕緣層),較金屬膜層區(qū)域更易受CMP磨損,經(jīng)過多次CMP制程后段差累積加深。(剩余7138字)
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- 科技創(chuàng)新與應用
- 2024年26期
目錄
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