摻雜元素X(B、Al、Sn、Co)對IDB-X/Diamond界面結(jié)合性能的影響
摘要 基于量子力學第一性原理,建立了IDB-B/Diamond、IDB-Al/Diamond、IDB-Sn/Diamond和IDB-Co/Dia-mond 4種膜基界面模型,計算了膜基界面結(jié)合能、差分電荷密度和布居數(shù),以探究孕鑲金剛石鉆頭(impreg-nated diamond bits,IDB)基體中的常用元素X(X=B、Al、Sn、Co)對IDB-X/Diamond膜基結(jié)合強度的影響機制。(剩余17212字)
試讀結(jié)束
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- 金剛石與磨料磨具工程
- 2025年01期
目錄
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