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摘要：文章探究了光刻工序的水汽和ITO刻蝕工序的藥液結(jié)晶對(duì)Dual Gate產(chǎn)品柵極制程的斷路影響，通過(guò)DOE試驗(yàn)得到影響因子的最佳改善條件，使55寸Dual Gate產(chǎn)品柵極制程的斷路缺陷發(fā)生率整體降低36%，為公司帶來(lái)80.2萬(wàn)元的月度收益，能夠?qū)ζ渌叨水a(chǎn)品斷路缺陷的改善思路、新工藝設(shè)備的設(shè)計(jì)改進(jìn)，提供參考。（剩余4436字）
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Dual Gate液晶顯示屏柵極制程斷路缺陷的分析與改善
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