氫化膜對(duì)鈦表面電鍍鍍層結(jié)合的影響
摘要:通過(guò)掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)、X 射線(xiàn)衍射儀(X-raydiffractometer,XRD)、能譜儀(energy dispersive spectrometer,EDS)研究了氫化膜對(duì)鈦表面電鍍鍍層結(jié)合的影響。試驗(yàn)結(jié)果表明:鈦經(jīng)過(guò)HCl 和H2SO4 混合溶液的氫化處理,一方面可以實(shí)現(xiàn)鈦基體上電鍍鎳銅,提高鍍層結(jié)合強(qiáng)度,鍍層結(jié)合強(qiáng)度最大值為9.6 MPa;但另一方面氫化形成蜂窩狀多孔的氫化膜會(huì)限制鍍層結(jié)合強(qiáng)度。(剩余4633字)
目錄
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