MgF2/Lumogen復(fù)合薄膜抗輻照損傷效應(yīng)研究

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文章編號(hào)：1005-5630（2024）05-0088-07 DOI：10.3969/j.issn.1005-5630.202311090123

摘要：為研究MgF2/Lumogen復(fù)合薄膜應(yīng)用于真空紫外探測(cè)的高能輻照損傷特性，以300 W高能1 064 nm連續(xù)激光進(jìn)行輻照。通過(guò)改變激光功率和掃描速率，調(diào)控膜層受激光輻照的能量和時(shí)間，并測(cè)試輻照前后薄膜光致發(fā)光強(qiáng)度、熒光衰減、透過(guò)率等光信號(hào)性能。（剩余9126字）