電參數(shù)及電解液濃度對(duì)鎂合金微弧氧化膜層性能的影響及應(yīng)用

打開文本圖片集

摘要： 為研究電參數(shù)和電解液濃度對(duì)鎂合金微弧氧化膜層性能的影響，以Mg-Zn系鎂合金為研究載體，采用硅酸鹽體系電解液，在鎂合金表面制備了微弧氧化膜，通過改變電參數(shù)及電解液濃度，研究了不同參數(shù)對(duì)微弧氧化膜層性能的影響。結(jié)果表明：隨著電壓的升高、占空比的增加、頻率的減小，提供的能量增加，膜層生長(zhǎng)速率加快，膜層厚度隨之增加；隨著電流密度的增加，膜層厚度先增加后減小，電流密度對(duì)膜層厚度的影響取決于生長(zhǎng)速率和反應(yīng)時(shí)間。（剩余13683字）